Freiburg, Deutschland (ots/PRNewswire) – Dr. Davor Sutija wird neuer CEO von NexWafe. Dr. Stefan Reber fokussiert sich auf die CTO und Geschäftsführer Aufgaben.
NexWafe gab heute bekannt, dass Davor Sutija ab dem 1. September als CEO in das Unternehmen eintreten wird.
Davor Sutija verfügt über umfangreiche Erfahrung, Technologieunternehmen zu führen und deren globale Expansion voranzutreiben. Als Mitbegründer von SiNor (heute Norwegian Crystals), das 2004 von REC übernommen wurde, hat er das Wachstum der Photovoltaik mitgetragen. In leitender Funktion bei FAST, einem Unternehmen für Suchalgorithmen in Firmen, sowie als CEO bei Thin Film Electronics, einem weltweit führenden Unternehmen für gedruckte Elektronik, gelang es ihm, Shareholder Value durch Erschließung neuer Märkte und Einführung innovativer Technologieprodukte zu schaffen.
„Ich freue mich sehr, Davor Sutijas Ernennung zum CEO von NexWafe ankündigen zu können, zu einem Zeitpunkt an dem die Firma in die kommerzielle Phase eintritt. Seine ausgeprägte Managementerfahrung und Führungsqualität, seine starke kaufmännische Ausrichtung und seine beeindruckende Erfolgsbilanz bei der Entwicklung von Firmen werden dem Unternehmen sehr zugute kommen, wenn wir Anfang nächsten Jahres mit der Qualifizierung mit Kunden beginnen,“ sagt Peter Pauli, Chairman des Boards.
Dr. Stefan Reber, Mitgründer und CTO ergänzt: „Ich freue mich, Davor an Bord begrüßen zu können. Kurz bevor wir die ersten Wafer an Kunden liefern wird Davor unser Team ergänzen, und gemeinsam mit uns den Aufbau von NexWafe zu einem führenden Technologieunternehmen weiter treiben.“
NexWafe hat mit seinem kontinuierlichen Epitaxieprozess Pionierarbeit in der Herstellung monokristalliner Siliziumwafer geleistet. Mit seinem Prozess kann NexWafe bei minimalen Materialverlusten beliebig dünne, vollquadratische Siliziumwafer mit höchster Materialqualität herstellen. Die Firma nimmt aktuell eine 5MW Pilotlinie in Freiburg in Betrieb und plant, im ersten Halbjahr 2021 Kunden zur Qualifizierung zu beliefern. Die Wafer ermöglichen durch höchste Wirkungsgrade die Reduktion der Herstellungskosten für Solarstrom um mehr als 20%. Nach erfolgreicher Qualifikation beabsichtigt die Firma an ihrem Standort in Bitterfeld bis 2023 eine industrielle Produktion mit einer Jahreskapazität bis 450 Millionen Wafern aufzubauen. Mit seinen hocheffizienten und ultradünnen EpiNex® Produkten, die Anfang nächsten Jahres zur Verfügung stehen, ist NexWafe bereit, die Photovoltaik und die Solarindustrie in ein neues Zeitalter zu führen.
Über NexWafe GmbH
NexWafe konzentriert sich auf die Industrialisierung innovativer Technologie für die epitaktische Herstellung von Siliziumwafern für die Photovoltaik. In Freiburg betreibt das Unternehmen eine Pilotproduktionslinie für hochwertige monokristalline Wafer, die mit der konventionellen Solarzellen- und Modulherstellung voll kompatibel sind. Bei dem von NexWafe entwickelten EpiWafer-Verfahren wird eine kristalline Siliziumschicht auf einen Saatwafer abgeschieden und dann abgelöst. Mit dieser bahnbrechenden Technologie kann jede gewünschten Waferdicke hergestellt werden. Dank des neuen, vereinfachten Herstellungsverfahrens werden die Kapitalinvestitionen im Vergleich zum herkömmlichen Kristallwachstum um 50% und die in der Herstellung erzeugten CO2-Emissionen um 70% reduziert. NexWafe wurde 2015 aus dem Fraunhofer-Institut für Solare Energiesysteme ISE ausgegründet. Zu den Hauptinvestoren zählen Saudi Aramco Energy Ventures (SAEV) und Green Growth Fund 2 (GGF2).
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